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聶宗秀:探索質(zhì)譜前沿極限


  來源: 分析測(cè)試百科網(wǎng) 時(shí)間:2019-10-15 編輯:儀商WXF
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目前反射模式的高分辨MALDI-TOF和高分辨MALDI TOF/TOF,尤其是適合高通量質(zhì)譜成像研究的質(zhì)譜,還只有少數(shù)廠家可以提供。從用戶角度,聶宗秀對(duì)MALDI質(zhì)譜成像廠家提出三點(diǎn)建議。首先,TOF為獲得超高分辨率,需要很強(qiáng)的電場(chǎng),除了加很高的電壓外,縮小了靶板與地之間的距離,希望在做高分辨時(shí),兼顧質(zhì)譜分辨率與用戶需求,盡可能增加靶板與地的空間距離。其次在做成像時(shí),激光打靶的時(shí)間很長(zhǎng),打出的是等離子體,而等離子體慢慢會(huì)導(dǎo)電,影響高壓的壽命及穩(wěn)定性而進(jìn)一步影響質(zhì)譜的穩(wěn)定性,希望在技術(shù)上加以改進(jìn); 第三,現(xiàn)在商用激光器的激光波長(zhǎng)都設(shè)在355 nm處,希望開發(fā)激光波長(zhǎng)可調(diào)的質(zhì)譜儀。


課題組研發(fā)的質(zhì)譜技術(shù)

除了使用商品化質(zhì)譜做應(yīng)用,聶宗秀課題組也研發(fā)了一些產(chǎn)業(yè)化前期的質(zhì)譜。比如便攜式顆粒質(zhì)譜儀,以及采用二次流技術(shù)的基質(zhì)噴霧儀。關(guān)于基質(zhì)噴霧儀,聶老師介紹了其原理。

基質(zhì)在組織切片上分布的均勻度、結(jié)晶度和晶體顆粒的大小等因素是決定質(zhì)譜成像質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。目前,MALDI(基質(zhì)輔助激光解吸電離)質(zhì)譜成像研究中常用的基質(zhì)附著方法是采用商業(yè)化、非常昂貴的基質(zhì)二次流沉積設(shè)備來進(jìn)行,二次流方法使用氣流(一次流)產(chǎn)生的小液滴(二次流),液滴大小難于控制、尺寸不均會(huì)影響分辨率。進(jìn)行質(zhì)譜成像希望的理想情況是:一個(gè)分子外面包裹一層薄薄的單分子層的基質(zhì),噴霧越均勻,基質(zhì)層越薄成像效果就越好。課題組使用了一臺(tái)價(jià)格低于5美元的迷你加濕器,采用超聲噴霧方法,研發(fā)了超聲噴霧儀,通過精確控制超聲波的頻率即可得到均勻大小的顆粒,改變頻率可調(diào)節(jié)顆粒尺寸,頻率越高顆粒尺寸越小。該設(shè)備提供了更高的靈敏度和更小的基質(zhì)晶體(直徑小于10 μm),可獲得10μm空間分辨率的高質(zhì)量離子圖像。事實(shí)證明,超聲噴霧的方法靈敏度和成像質(zhì)量都得到大幅提高。課題組用MALDI-MS/MS成像以分離小鼠腦中的兩種脂質(zhì)。


人物簡(jiǎn)介:


聶宗秀,中科院化學(xué)所研究員,國(guó)家杰出青年基金獲得者。以顆粒質(zhì)譜構(gòu)建及小分子代謝產(chǎn)物質(zhì)譜為主要研究方向,針對(duì)質(zhì)譜在顆粒分析存在的關(guān)鍵科學(xué)與技術(shù)問題,在質(zhì)譜儀器構(gòu)建及應(yīng)用等方面進(jìn)行了系統(tǒng)探索研究。設(shè)計(jì)研制了多種顆粒離子化源及電荷探測(cè)器,構(gòu)建了離子阱顆粒質(zhì)譜裝置平臺(tái),對(duì)微納尺度顆粒進(jìn)行了多參數(shù)表征;建立了基于指紋質(zhì)譜的顆粒分析方法,獲得了納米顆粒的生物組織質(zhì)譜成像,將質(zhì)譜質(zhì)量范圍拓寬了8個(gè)數(shù)量級(jí),從分子質(zhì)譜的10e6 Da至顆粒的10e14 Da;合成和發(fā)現(xiàn)了系列MALDI新基質(zhì),獲得了多種動(dòng)物模型下的代謝小分子質(zhì)譜成像。獨(dú)立工作以來,發(fā)表通訊作者論文62篇,其中包括1篇Nature Nanotech.、1篇Science Adv.、17篇Anal. Chem.、6篇Chem. Commu.、2篇Chem. Eur. J. 。發(fā)表在Nature Nanotech.上的工作,由雜志社撰文在同期的“新聞視角”中進(jìn)行了專欄評(píng)論,被Chem. Res. Toxicol.選為“研究亮點(diǎn)”,入選2016年Nature Nanotech.雜志10周年???。授權(quán)中國(guó)發(fā)明專利21項(xiàng)。

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