國產電子束光刻機實現(xiàn)自主可控，是實現(xiàn)我國集成電路產業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，松山湖材料實驗室精密儀器聯(lián)合工程中心產業(yè)化項目研發(fā)再獲新突破：項目團隊成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，在全自主電子束光刻機整機的開發(fā)與產業(yè)化過程中取得階段性進展，初步實現(xiàn)了電子束光刻機整機的自主可控，標志著國產電子束光刻機研發(fā)與產業(yè)化邁出關鍵一步。

電子束光刻是利用聚焦電子束對某些高分子聚合物（電子束光刻膠）進行曝光并通過顯影獲得圖形的過程，而產生聚焦電子束并讓聚焦電子束按照設定的圖形掃描的儀器就叫做電子束光刻機。它是推動我們當前新材料、前沿物理研究、半導體、微電子、光子、量子研究領域的重要手段之一。此前，全球電子束光刻機市場高度集中，主要由美日企業(yè)壟斷，我國尚未掌握該領域核心技術，裝備長期依賴進口。

松山湖材料實驗室精密儀器研發(fā)團隊作為首批入駐實驗室的團隊之一，專注于材料和半導體領域的精密加工、表征和測量設備研發(fā)。團隊負責人許智已從事相關研究近20年，參與承擔多項國家重點研發(fā)計劃專項工作及國家重大科研裝備研制項目，近5年帶領產業(yè)化團隊研發(fā)的精密儀器成果轉化填補多項國產空白，產值超億元，產品出口美國、英國、德國、澳大利亞。

為了研制具有自主知識產權的電子束光刻機整機，精密儀器研發(fā)團隊在松山湖材料實驗室完成一期項目研發(fā)并成立產業(yè)化公司后，帶資回到實驗室進入“滾動發(fā)展”模式：產業(yè)化公司東莞澤攸精密儀器有限公司與實驗室共同投資2400萬元進行第二階段研發(fā)，目標是打造集科研與產業(yè)化為一體的電子束裝備技術創(chuàng)新基地。通過深入開展電子束與新材料交叉領域的前沿技術研發(fā)，實現(xiàn)關鍵裝備和共性技術的自主可控，切實提升我國在電子束加工與制備領域的整體創(chuàng)新能力和產業(yè)競爭力。

目前，東莞澤攸精密儀器有限公司已基于自主研制的掃描電鏡主機，完成電子束光刻機工程樣機研制，并開展功能驗證工作。通過對測試樣片的曝光生產，可以繪制出高分辨率的復雜圖形，朝著行業(yè)先進水平穩(wěn)步前進。該成果標志著澤攸科技在電子束光刻機關鍵技術和整機方面的自主創(chuàng)新能力獲得重大提升。下一步，團隊及產業(yè)化公司將持續(xù)完善電子束光刻機的性能指標，使其達到批量應用及產業(yè)化的要求。

以下是電子束光刻機部分應用案例：