強化自動獲取大量數(shù)據(jù)功能 ，實現(xiàn)高效率觀察 。

日立高新技術公司（以下簡稱日立高新技術）此次推出兩款FE-SEM*1“SU8600”和“SU8700”（以下簡稱此系列產品），這兩種型號配置自動獲取大量數(shù)據(jù)的功能。

FE-SEM（Field Emission Scanning Electron Microscope）是用于觀察、測量和分析樣品細微結構的場發(fā)射掃描電子顯微鏡，因此被廣泛用于半導體、生命科學和材料研發(fā)等領域。未來，數(shù)據(jù)驅動開發(fā)的進步需要龐大的數(shù)據(jù)支撐，為此，日立高新技術特推出此系列產品，支持短時間內獲取大量數(shù)據(jù)，減輕用戶的負擔。

· 新品推薦 ·

場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600(左)/SU8700(右)

· 產品開發(fā)背景 ·  

FE-SEM獲得的圖像分辨率高，信息豐富，樣品處理相對簡單，并且它可以觀察、測量并分析樣品的細微結構，因此被廣泛應用于納米技術、半導體、電子器件、生命科學、材料等領域。

近年來，以Materials Integration（一項綜合性材料研發(fā)技術，以縮短材料研發(fā)周期為目的，整合運用了理論/實驗/數(shù)據(jù)分析/模擬/數(shù)據(jù)庫）為代表，其應用領域及用途在不斷擴展，短時間內獲取大量數(shù)據(jù)，減輕作業(yè)負荷成為市場的一大需求。為滿足這一需求，此次特推出SU8600和SU8700，這兩種型號是在日立不斷改進與沉淀的具有高分辨性能的FE-SEM基礎上，進一步優(yōu)化了自動化功能，以快速獲取大量數(shù)據(jù)。

· 產品特點 ·

在細微結構分析中，SU8600可以實現(xiàn)低加速電壓觀察，對高分子等易受電子束照射影響的材料進行高分辨觀察。SU8700可配置各種分析附件，適用于從低加速觀察到高束流的EBSD（Electron Back Scatter Diffraction（電子背散射衍射）。一種用于晶體樣品取向分析的方法。）分析，支持陶瓷、金屬等不同材料的解析。

此系列產品主要具有以下三大特點：

1.支持自動獲取數(shù)據(jù)

在FE-SEM的觀察和分析中，需要根據(jù)測量樣品與需求調整觀察條件。調整所需時間的長短取決于用戶的操作熟練度，這是造成數(shù)據(jù)質量與效率差異的因素之一。此系列產品標配自動調整功能，可避免人為操作導致的差異。

此外，隨著儀器性能的提升，需要獲取的數(shù)據(jù)種類與數(shù)量也在增加，手動獲取各種大量數(shù)據(jù)會大大增加用戶的作業(yè)負擔。此系列產品可選配“EM Flow Creator”，用戶可根據(jù)自身需求設定條件，自動獲取數(shù)據(jù)，這對于未來通過獲取大量數(shù)據(jù)實現(xiàn)數(shù)據(jù)驅動開發(fā)起到重要作用。

2．增加獲取信息的種類與數(shù)量

通過SEM能夠收集到多種信號，且此系列產品最多可以同時顯示和存儲6個檢測器的信號。在減少圖像獲取次數(shù)的同時能夠獲取多種信息。

此外，為一次性獲取大量信息，最大像素擴展到了40,960 x 30,720（選配），是當前型號（與Regulus系列FE-SEM對比）的64倍。利用這一功能，可憑借一張數(shù)據(jù)圖像有效評估多處局部的細微結構。

3．增強信號檢測能力

SU8600開發(fā)了多個新型選配檢測器，加強了對凹凸信息、發(fā)光信息的檢測能力。此外，還提高了背散射電子信號檢測的響應速度。

SU8700的樣品倉設計巧妙，可使用短WD（工作距離：SEM物鏡與樣品間的距離）進行EDS（能譜儀）分析，通過提高EDS分析的空間分辨率，能夠實現(xiàn)更微小部位的分析。